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0718 Rapidus社、日本初の2ナノメートル試作成功を発表——2027年量産へ向けた課題も依然残存

  • Guest
  • 2025年7月19日
  • 読了時間: 1分

日本政府の強力な支援を受ける半導体スタートアップ企業Rapidus社は、7月18日、北海道にある自社工場において2ナノメートルチップの試作に成功したと発表した。これは日本国内における同技術領域での初の成果であり、重要なマイルストーン達成となる。しかしながら、同社が掲げる2027年の量産化目標に向けては、依然として多くの技術的・事業的課題が残されている。


ブルームバーグの報道によれば、Rapidus社が技術的に難易度の高い2ナノメートルチップの試作に成功した主因は、極端紫外線(EUV)リソグラフィ装置の迅速な導入にあるとされている。代表取締役社長である小池淳義氏は記者会見にて、「昨年末にEUV装置を設置してから、わずか3カ月で装置の稼働に成功した。これは世界的に見ても前例のないスピードである」と述べた。


一方で、この技術的成果にもかかわらず、Rapidus社に対する外部からの懸念がすべて払拭されたわけではない。同社は、今回試作された製品の品質や、顧客誘致の進捗状況について詳細を明らかにすることを控えており、情報開示の姿勢が引き続き注目されている。


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