0310 先端半導体の微細化で急拡大するAMCフィルター需要と供給逼迫

世界の半導体製造プロセスが2ナノメートル以下の世代へ進むにつれ、半導体工場のクリーンルーム環境に対する要求は一段と厳しくなっている。特に気体分子汚染物質（AMC：Airborne Molecular Contamination）対策の需要が急速に拡大しており、濾能、鈺祥、そしてスウェーデンのCamfil（カムフィル）などの主要企業がこの分野で存在感を高めている。半導体産業の設備投資拡大と先端プロセスの急速な進展、さらに主要顧客であるTSMC（台積電）の大規模投資により、近年ではAMC用フィルターの供給が逼迫する状況が生じており、新たな値上げの動きも出始めている。

半導体プロセスが2ナノメートル以下の世代へ進む中、クリーンルームにおける気体分子汚染物質（AMC）対策の重要性が急速に高まっている。微細化が進むほどAMCが製造歩留まりへ与える影響は大きくなり、わずかな分子汚染でも不良率を高める可能性がある。特に3nm・2nm世代ではGAA構造の導入により、微小汚染への感度はさらに高まる。このため半導体工場では化学フィルターの使用量が増加し、AMCフィルターは単なる消耗品から、工場建設や生産計画に影響する重要部品へと位置付けが変化している。TSMCの大規模投資を背景に市場需要は急増し、濾能、鈺祥、Camfilなど主要メーカーの供給能力を超える状況も発生している。これにより半導体関連企業は供給確保のため出資などを進めている。今後も先端プロセス拡大に伴い需要は継続的に増加し、高性能フィルターを中心に価格上昇が数年続く可能性が高い。さらに需要は半導体工場だけでなく、封止・検査工場、電子製造ライン、データセンター、大型空調設備などにも広がっている。

（感謝参考）Digi